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舒畅三个离开学校后，高幸真有些成了避世修行的状态，每天回到宿舍，连个跟他拌嘴的人都没有，孤单得一批。
不过他不在乎，现在满脑子都是热电薄膜，也没有功夫找人闲扯。
所有制备材料的数据都有了，接下来就是大量的分析工作。通过数据比对，采用不同制备工艺做出来这些材料样品当中，用射频磁控溅射法制备的碲化铋基热电薄膜综合性能最为理想。热电优值系数达到1.43，远远超过课题组制定的1.0的最低标准，又迈出了可喜的一步。
几个国家牵头，十数个著名高校联合开展研究，学校大张旗鼓成立的热电材料课题组，才定下1.0的ZT值指标，感觉好像不是什么难以攀登的科技高峰。
而且现在就已经有数种热电材料优值接近或达到到这个指标，ZT值为1的热电材料制作出来的温差发电系统，电能转换率再怎么高也不会超过10%，虽然很可能比现有温差发电系统5%-7%热电转换效率的指标略有提升，但这并不是课题组的最终目标。
课题组的目标是温差发电效能超过15%，考虑在实际应用中的能量流失，就要求制备出来的热电材料ZT值达到1.7左右，这才是课题组耗费人力物力开展研究的目的。
课题组定下1.0这个最低门槛，只是给热电材料实验制备初始阶段设置的门槛，如果某种研制出来的热电材料达到或超过这个指标，就证明有继续往下研究的潜力，反之就要放弃，走别的路。
碲化铋基热电薄膜ZT值达到1.43，证明课题组提出的理论研究方向是可行的，继续进行一系列的研究改进，这个指标还有望得到提升，最终达到或超过1.7的ZT值。
接下来，高幸吴承越他们三个人的目标就是围绕着射频磁控溅射法制备的碲化铋基热电薄膜做文章。
首先他们要做的就是整理分析制备工艺的整个过程，思考射频磁控溅射法在将来投入工业化生产后的可操作性，工艺难度和制造成本的问题。
比起其他合成制备方式，射频磁控溅射法能较为精准的控制薄膜厚度，具有快速稳定的沉积速率，制备过程中带入的杂质含量极少，成型材料成分和靶材成分相同这些优点，比起其它制备工艺优势很明显。
在可操作性方面，射频磁控溅射法能在较低功率和气压条件下有效操作，对环境条件要求并不高，也是一项优势。而且射频磁控溅射法所需要的生产设备成本比起其它方法造价也并不高。
综合这几方面的因素，课题组认为射频磁控溅射法具备工业化生产的合适条件，实验小组接下来的目标就放到了通过制备工艺提升材料性能的深入研究。
实验组需要反复测试在什么样的条件下制备出来的材料性能才是最优状态，这些条件包括溅射功率，溅射流量，溅射时间，压力温度条件等等方面，这些因素都有可能会影响到材料的
性能。
这就是一个水磨工夫的环节了，没有任何现成的资料可供参考，只能一步步反复实验，最终找出最合适的条件。
高幸继续利用系统的优势进行这个实验环节，在耗费大量系统积分之后，他总结组合出了最合适的工艺条件。
他发现，采用射频溅射模式，功率设置为75W，腔体内部气压设定为0.56Pa，Ar流量控制在每分钟20立方厘米，溅射时间设定为10分钟，制备温度控制在270-280℃的条件下，制备成型的样品性能最优。
研究制备工艺环节，吴承越三个人是分开独立操作的，三个人同时进行是为了节省时间，能更广泛的找出最优条件组合的可能。当然他们三人每天开始实验之前都要通报汇总之前完成的情况，避免出现重复实验的情况。
十天之后，高幸觉得时间差不多了，把他早在系统空间总结的方法用了出来，制备出ZT值达到1.72的薄膜样品，把吴承越和陈敏两人震得目瞪口呆。
一时间，整个课题组都炸锅了，才不到两个月的时间，高幸所在的实验小组就成功研制出符合课题组最终要求的热电材料，而且这组材料样品是个人独立研制出来的，还是在所有实验人员中资历最浅的高幸研制出来的，简直匪夷所思。
课题组当初给各个实验小组定时三个月的时间节点，并不是要求实验小组在三个月之内拿出符合课题组最终目标的热电材料，而是要求在这个时间之内验证他们所进行课题的理论正确性，达到1.0这个最... -->>
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舒畅三个离开学校后，高幸真有些成了避世修行的状态，每天回到宿舍，连个跟他拌嘴的人都没有，孤单得一批。
不过他不在乎，现在满脑子都是热电薄膜，也没有功夫找人闲扯。
所有制备材料的数据都有了，接下来就是大量的分析工作。通过数据比对，采用不同制备工艺做出来这些材料样品当中，用射频磁控溅射法制备的碲化铋基热电薄膜综合性能最为理想。热电优值系数达到1.43，远远超过课题组制定的1.0的最低标准，又迈出了可喜的一步。
几个国家牵头，十数个著名高校联合开展研究，学校大张旗鼓成立的热电材料课题组，才定下1.0的ZT值指标，感觉好像不是什么难以攀登的科技高峰。
而且现在就已经有数种热电材料优值接近或达到到这个指标，ZT值为1的热电材料制作出来的温差发电系统，电能转换率再怎么高也不会超过10%，虽然很可能比现有温差发电系统5%-7%热电转换效率的指标略有提升，但这并不是课题组的最终目标。
课题组的目标是温差发电效能超过15%，考虑在实际应用中的能量流失，就要求制备出来的热电材料ZT值达到1.7左右，这才是课题组耗费人力物力开展研究的目的。
课题组定下1.0这个最低门槛，只是给热电材料实验制备初始阶段设置的门槛，如果某种研制出来的热电材料达到或超过这个指标，就证明有继续往下研究的潜力，反之就要放弃，走别的路。
碲化铋基热电薄膜ZT值达到1.43，证明课题组提出的理论研究方向是可行的，继续进行一系列的研究改进，这个指标还有望得到提升，最终达到或超过1.7的ZT值。
接下来，高幸吴承越他们三个人的目标就是围绕着射频磁控溅射法制备的碲化铋基热电薄膜做文章。
首先他们要做的就是整理分析制备工艺的整个过程，思考射频磁控溅射法在将来投入工业化生产后的可操作性，工艺难度和制造成本的问题。
比起其他合成制备方式，射频磁控溅射法能较为精准的控制薄膜厚度，具有快速稳定的沉积速率，制备过程中带入的杂质含量极少，成型材料成分和靶材成分相同这些优点，比起其它制备工艺优势很明显。
在可操作性方面，射频磁控溅射法能在较低功率和气压条件下有效操作，对环境条件要求并不高，也是一项优势。而且射频磁控溅射法所需要的生产设备成本比起其它方法造价也并不高。
综合这几方面的因素，课题组认为射频磁控溅射法具备工业化生产的合适条件，实验小组接下来的目标就放到了通过制备工艺提升材料性能的深入研究。
实验组需要反复测试在什么样的条件下制备出来的材料性能才是最优状态，这些条件包括溅射功率，溅射流量，溅射时间，压力温度条件等等方面，这些因素都有可能会影响到材料的
性能。
这就是一个水磨工夫的环节了，没有任何现成的资料可供参考，只能一步步反复实验，最终找出最合适的条件。
高幸继续利用系统的优势进行这个实验环节，在耗费大量系统积分之后，他总结组合出了最合适的工艺条件。
他发现，采用射频溅射模式，功率设置为75W，腔体内部气压设定为0.56Pa，Ar流量控制在每分钟20立方厘米，溅射时间设定为10分钟，制备温度控制在270-280℃的条件下，制备成型的样品性能最优。
研究制备工艺环节，吴承越三个人是分开独立操作的，三个人同时进行是为了节省时间，能更广泛的找出最优条件组合的可能。当然他们三人每天开始实验之前都要通报汇总之前完成的情况，避免出现重复实验的情况。
十天之后，高幸觉得时间差不多了，把他早在系统空间总结的方法用了出来，制备出ZT值达到1.72的薄膜样品，把吴承越和陈敏两人震得目瞪口呆。
一时间，整个课题组都炸锅了，才不到两个月的时间，高幸所在的实验小组就成功研制出符合课题组最终要求的热电材料，而且这组材料样品是个人独立研制出来的，还是在所有实验人员中资历最浅的高幸研制出来的，简直匪夷所思。
课题组当初给各个实验小组定时三个月的时间节点，并不是要求实验小组在三个月之内拿出符合课题组最终目标的热电材料，而是要求在这个时间之内验证他们所进行课题的理论正确性，达到1.0这个最... -->>
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